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在發展中求生存,不斷完善,以良好信譽和科學的管理促進企業迅速發展中科大、河南大學與多倫多大學聯合團隊在《NaturePhotonics》發表研究,利用混合相CdZnSeS量子點中的偶極-偶極相互作用使量子點有效排列,增強了發光二極管中的光子外耦合。通過該技術突破平面QD-LED外量子效率30%的理論極限,實現35.6%的峰值外量子效率。DOI:10.1038/s41566-023-01344-4一、行業核心痛點長期以來,QD-LED的外量子效率(EQE)一直受限于光子出射耦合效率不足,通常只有大約30%的光子能逸出器件。傳統的各向異性納米...
查看詳情膜厚測試儀是用于精確測量材料表面涂層、鍍層或薄膜厚度的精密儀器,覆蓋從納米到毫米級測量,廣泛用于半導體、汽車、電子、光學等行業。膜厚測試儀根據測量原理的不同,主要分為以下幾種類型:磁性法:適用于測量磁性基底上的非磁性涂層的厚度。通過測量磁場強度的變化來確定涂層的厚度。渦流法:適用于測量非磁性基底上的涂層厚度。通過在探頭中產生高頻交流電,產生渦流,渦流的強度和相位變化與涂層的厚度有關,從而可以測量涂層的厚度。超聲波法:通過發射和接收超聲波脈沖來測量涂層的厚度。超聲波在不同材料中...
查看詳情光譜橢偏儀是基于橢圓偏振測量原理的高精度光學儀器,主要用于表征薄膜和材料的光學特性與微觀結構。測量流程:設定入射角(如70°)和波長范圍;偏振光照射樣品,反射光進入探測系統;通過旋轉起偏器/檢偏器或使用相位調制技術,獲取Ψ(λ)和Δ(λ)光譜;建立光學模型;利用最小二乘法擬合實驗數據,優化模型參數;輸出結果:厚度、光學常數、界面粗糙度、成分等。局限性與注意事項:屬于間接測量,嚴重依賴模型與初始參數;光斑通常幾十到幾百微米,空間分辨率低于AFM/SEM;強吸收基底上的超薄透明膜...
查看詳情如何用好光譜橢偏儀?在納米薄膜、光學涂層、半導體晶圓、光電材料的研發與檢測里,光譜橢偏儀是繞不開的“高精度檢測設備”。小到納米級薄膜厚度,精到材料的折射率、消光系數和介電常數,再到多層薄膜結構解析,橢偏儀都能精準測量。但是眾多客戶也經常向我們反饋:時間久了不會測量?不確定數據采集得準不準?數據建模更是毫無頭緒?明明是無損、高精度的專業檢測手段,偏偏卡在實操和數據分析上,最后浪費樣品又耽誤實驗進度。今天我們就拋開復雜的公式,一文講透光譜橢偏儀的核心原理、標準操作流程,還有最頭疼...
查看詳情在現代光學工程、半導體制造、光伏產業以及顯示技術領域,薄膜材料的應用無處不在。無論是增透膜、反射膜,還是半導體器件中的介質層,薄膜的光學性能直接決定了產品的效能。而在眾多光學參數中,折射率是關鍵的指標之一,它描述了光在介質中傳播速度的變化規律,直接影響光的反射、折射及干涉行為。薄膜折射率測試對于工藝監控、產品設計及質量評估具有重要意義。一、核心測試原理薄膜折射率測試并非直接“測量”一個數值,而是通過觀測光與薄膜相互作用后產生的光學現象(如干涉光譜或偏振狀態變化),結合物理模型...
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